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传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？
这是***的，目前的水平是90nm，预计于明年研发出28nm的光刻机，所以什么11nm，明显就是***的。
一、上海微电子的水平
上海微电子说起来其实也算是全球第四大光刻机厂商了， 不过在光刻机领域，目前出名的也就四家，分别是ASML，尼康、佳能、上海微电子。
而这四家厂商目前能够量产的光刻机节点水平如下图所示，上海微电子是属于最差的那一家，还是处在90nm，而ASML是最强的那一家，已经进入到5nm了，就算ASML从此不前进了，让上海微电子追，也要至少10年才追得上。
二、光刻机研发的难点在哪里？
那么光刻机的研发难点在哪里？很多人觉得可能是元件，其实光刻机的原理并不复杂，就是投影仪+照相机，最关键的元件也就是光源，但其实它也不那么重要。
就是用光源把芯片的电路图投射到涂了光刻胶的硅晶圆上，硅晶圆涂了光刻胶，是一种光感材料，就会显示出电路图来，这中间光学技术运用得比较多。
让你失望了，上海微电孑没有研制出11纳米的光刻机。但是，再告诉你一个好消息，明年，上海微电子将研制出28纳米的光刻机，经过多次光刻后，能精确到11纳米。再告诉你个更大的好消息，我们国家的实验室里巳经研制成功了9纳米光刻机，虽然，工厂化量产还得多年以后。相信.，上海微电子所一定会不辱使命，在光刻机领域大展伸手，舞出明天中国光刻机的一片希望之所。
对于我国来说，光刻机又是一项“卡脖子”设备。上海微电子能够量产90nm工艺的光刻机，而荷兰ASML最新的光刻机可以生产5nm芯片。最新消息，2021年上海微电子交付28nm光刻机，在多次曝光的条件下，可以生产11nm芯片。这是真的吗？下文具体说一说。
上海微电子即将交付的是一台ArF光源光刻机，核心配件全部来自于国内供应链：
这些核心配件由上海微电子负责总体集成，其中华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7nm，经过多次曝光有生产11nm制程工艺的潜力。中微半导体也推出了5nm制程的蚀刻机，南大光电研发出193nm光刻胶，华为自研的EDA进行了7nm验证。总之，国产11nm光刻机即将来临。
目前，光刻机领域的龙头企业是荷兰的ASML，占据了80%的高端光刻机市场，其中EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产。EUV光刻机***了世界上最先进的技术，可以说是集人类智慧于大成。
其实，荷兰ASML也只是系统集成商，90%的关键零部件来自于外来，美国的光源和计量设备、瑞典的轴承、德国的镜头、法国的阀件等等，这些超精密的仪器和设备大部分对我国是禁运的。由于技术封锁，一定程度上阻挠了我国光刻机技术的发展。
额，其实稍微思考一下，就会知道这个消息是***的。
首先传这个消息的人并不一定是造谣，因为上海微电子确实公开表示过，预计在今年12月有望下降首台***用ArF光源的可生产11nm的SSA800/10W光刻机，2021年才可以制造出28nm的光刻机。
但是有几点需要我们注意：第一，上海微电子的原话是“有望”，并不是“一定”，这两者之间的差距还是挺大的，并不能说年底上海微电就一定能拿出成品来；第二，光刻机也不是一个模子里刻出来的，每一代和每一代的有不小的差距，主要由光源决定。我们熟知的ASML极紫外EUV光刻机属于第五代，是世界上最先进光刻机，制程分布在22nm-7nm之间。
而上海微电所说的是第四代光刻机，***用的是Arf光源，其制程分布在45nm-22nm。除非上海微电发现了什么不为人知的黑科技，想要在今年做出第五代EUV光刻机纯属天方夜谭。
目前，上海微电能够生产90nm的光刻机，可能有朋友表示现在台积电都实现5nm了，研究90nm制程有什么用？其实没必要这么悲观，因为并不是所有领域使用的芯片制程要求都很高，比如说军事用途方面，追求的是稳定，90nm制程的芯片完全可以满足。
很多人也许不知道，我国早在1***7年就自研了光刻机——JGK-3，可惜后来因为“买办”思想，没有坚持下去，外加后续的首钢失败，陈进***一系列***严重拖累了我国的芯片事业，现在我们和国外差了至少十年的差距。
但近几年来，国际形势越来越严峻，越来越多的人开始关注中国芯的发展，尤其是芯片制造方面。比如中芯国际，就在今年5月份获得了200亿美元的投资。还有题目中的上海微电，这几年的声音也很大。由上海微电子主导研发的首台国产11nm光刻机所***用的核心器件技术领域，依附在浙江大学研发团队的启尔机电推出了可用于最高11nm制程浸没式光刻机的浸液系统，在加上5nm蚀刻机和193nm光刻胶基本实现纯国产，这是非常了不起的成就。
到此，以上就是小编对于上海定制透镜灯具店的问题就介绍到这了，希望介绍关于上海定制透镜灯具店的1点解答对大家有用。
